2026/7/14

🇫🇷巴黎三区画廊展览征集｜未被留下的
Ce qui ne reste pas｜未被留下的

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《Ce qui ne reste pas｜未被留下的》 关注痕迹如何在显现与消失之间存在。展览邀请艺术家思考：当痕迹不再清晰、成果不再成为衡量的标准，作品是否可以以过程、残留或感知的方式持续存在？
本次展览欢迎那些将痕迹视为经验、时间或结构的载体的创作实践。痕迹可以是物质的，也可以是时间性的、记忆性的或空间性的；它们不指向完成，而指向一种正在消散、变形或转移的状态。
在这里，痕迹并非证明，而是一种正在发生的存在方式——
它既不被完全保留，也未彻底消失，而是在不确定之中持续生成。

征集范围：

1. 作品类型：
- 不限类型，包括但不限于绘画、雕塑、首饰、纤维、摄影、装置艺术、综合材料等各种形式。
2. 提交要求：
- 每位艺术家最多可提交2件作品。
- 申请材料包括：
作品高清图片：每件作品至少2张图片，展示不同角度。
作品详细描述：包括创作理念、使用的材料及其象征意义的说明。
艺术家个人简介：艺术家的背景及创作理念
（不完整的材料将不被考虑）
3. 参展条件：
- 参展作品需为原创。
- 优先考虑具有实验性、独特性，并能深刻诠释“未被留下的”主题的作品。
4. 评选标准：
评选委员会将根据以下标准进行评估：
- 作品主题与“未被留下的”的契合度。
- 创意及创新性。
- 艺术思维表现力和技巧水平。

展览时间：2026年09月15日 - 2026年09月19日
展览地点：Galerie DOHYANG LEE 75003 法国 巴黎
申请方式及截止日期：
申请截止日期：2026年08月20日 周四

提交方式：艺术家姓名➕未被留下的命名，以PDF格式发送至官方邮箱plustrois.asso@gmail.com
入选通知：主办方将在2026年08月24日通过电子邮件通知入选艺术家。

欢迎将中文版作品集同步至EveryArt官方邮箱：everyart@163.com获得更多合作机会。